在半導體產業鏈中，台灣雖為晶圓代工龍頭，但長期受制於歐美日大廠壟斷，核心製程設備幾乎全數仰賴進口。微影半導體選擇走出一條少有人行的道路，憑藉自主研發「步進式微米級投影曝光機」，企圖打破困局，為台灣設備產業寫下新篇章。

微影半導體的技術源自歐美，但經十餘年的整合與自主研發，成功結合LED光源與超高焦距深度投影鏡頭，推出兼具節能、環保與高性價比的曝光機。此類設備對晶片良率影響關鍵，過去市場由ASML、Nikon、Canon等巨頭主導，能切入的台灣廠商寥寥可數。微影的突破，不僅展現研發實力，也為台灣半導體核心設備產業打開曙光。

今年6月接任駿吉控股-KY（1591）董事長，同時亦是微影創辦人的胡德立，將兩家公司形成策略聯盟，採取「晶片導入設備」的商業模式。透過自有DDR記憶體晶片外包生產，帶動封測廠在製程中採用集團設備，讓微影曝光機、濺鍍機與蝕刻機逐步進入實際產線環境。這不僅能創造營收現金流，更能突破「客戶指定設備」的產業潛規則，為本土設備驗證鋪路。

營運方面，微影今年營收可望達1至1.5億元，並計畫挑戰1.5億元的目標，資本額擴充至2.5億元；2026年則鎖定5億元營收，並於第四季登錄興櫃。為強化產能與技術布局，公司已於竹科設立研發中心，在台南南科建置百億元規模的生產基地，推動研發與製造一體化。

微影除曝光機外，也積極投入濺鍍與蝕刻設備研發，並隨著駿吉DDR5晶片製程啟動而受惠。未來雙方將透過投資與交叉持股深化合作，打造「台灣半導體製程設備驗證平台」，從製程、製造到封裝，串聯在地供應鏈。

「我們的目標不只是做出一台設備，而是要成為台灣自主設備品牌的起點。」胡德立強調。這條道路挑戰艱鉅，但微影半導體正以創新技術與策略布局，挑戰國際巨頭的壟斷，邁向屬於台灣的核心設備新時代。